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ECR干法刻蝕介紹
日期:
2023-08-11 11:48:23
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電子回旋共振(Electron Cyclotron Resonance,ECR)利用電磁波(通常是微波)在磁場中產(chǎn)生的電子回旋共振來產(chǎn)生等離子體,然后利用這個等離子體來對半導(dǎo)體材料進行刻蝕。
2.45GHz的微波
微波是一種電磁波,其波長在1毫米到1米之間,對應(yīng)的頻率范圍約為300兆赫(MHz)至300千兆赫(GHz)。而半導(dǎo)體制造中常用的微波為2.45 GHz。
這個頻率的微波最為人所知的應(yīng)用可能就是微波爐了。微波爐中的微波發(fā)生器產(chǎn)生2.45 GHz的微波,這些微波能夠被待加熱物品的吸收,使它們振動并產(chǎn)生熱,從而加熱和烹飪食物。
2.45 GHz的頻率也在一些無線通信技術(shù)中被使用,例如Wi-Fi和藍牙。這個頻率范圍由于在大多數(shù)國家/地區(qū)都不需要許可證就能使用,因此在消費電子產(chǎn)品中非常流行。
2.45 GHz的微波也被用于一些特定的應(yīng)用,比如在電子回旋共振(ECR)系統(tǒng)中被用于激發(fā)電子和產(chǎn)生等離子體,用于半導(dǎo)體制程中的刻蝕過程。
使用2.45 GHz的微波在ECR系統(tǒng)中產(chǎn)生等離子體的主要優(yōu)點是,這個頻率的微波能量可以被等離子體中的電子有效地吸收,而且微波的能量相對較低,不會對半導(dǎo)體材料造成大的損傷。
首先,2.45 GHz的微波被注入到一個ECR-RIE機臺腔體中,這個腔體中充滿了需要刻蝕的氣體(如氟或氯)。在腔體中,微波和磁場相互作用,產(chǎn)生電子回旋共振,其中電子在微波的影響下在磁場中進行螺旋上升運動。這個過程會使電子獲得能量,形成高能電子。高能電子與腔體中的氣體分子相撞,使氣體分子激發(fā),產(chǎn)生等離子體。這個等離子體包含了高能電子和離子,自由基等活性物質(zhì)。等離子體被引導(dǎo)到半導(dǎo)體材料的表面,其中的活性物種與半導(dǎo)體材料發(fā)生反應(yīng),進行刻蝕。整個過程可以通過改變微波的功率、氣體的壓力和類型、以及磁場的強度來控制。
ECR的優(yōu)勢
1,高選擇性
2,高方向性
3,低傷害
ECR的缺點
設(shè)備復(fù)雜:ECR 技術(shù)的主要缺點是商用微波電源的限制,以及產(chǎn)生均勻磁化等離子體所需的磁鐵的物理限制,例如,要產(chǎn)生 875 高斯的磁場,磁鐵又大又重。體積龐大的 ECR 源難以聚集用于多腔室工藝,而且它們難以處理大于 200 毫米的晶圓。
刻蝕速率相對較低:ECR刻蝕中生成的等離子體的離子能量相對較低。這有利于減少對材料的損傷,但也意味著離子轟擊的效率可能較低,因此刻蝕速率也較低。
ECR的應(yīng)用
淺槽隔離(Hard Mask, Si Trench)
柵電極(Hard Mask, PolySi, Side Wall, Metal)
自對準接觸和互連(金屬回蝕、金屬硬掩模、雙鑲嵌溝槽)
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